Прорыв ASML позволит на 50% увеличить выпуск чипов на том же оборудовании

Вернувшиеся в Россию микроэлектронщики обещают разработать технологию мирового уровня

Прорыв ASML позволит на 50% увеличить выпуск чипов на том же оборудовании

ASML совершила прорыв в технологии EUV-литографии, планирует увеличить скорость на 50% к 2030 году

Прорыв ASML позволит в полтора раза повысить производительность машин для производства чипов

ASML подтвердила курс на EUV-сканер Twinscan NXE с источником 1000 Вт: к 2030 году обещают до 330 пластин в час

ASML разогнала EUV до киловатта — производительность сканеров вырастет на 50 % через несколько лет