Новая технология выведет поиск и создание функциональных материалов на новый уровень Сотрудники Университета Осаки (Япония) разработали алгоритм машинного обучения, способный отбирать материалы для синтеза полимеров, применяемых в фотоэлектрических устройствах.Центральная Служба Новостей