Intel приступила к использованию новейших литографических установок High NA EUV компании ASML при производстве отдельных компонентов процессоров Panther Lake для ноутбуков. Это первое практическое применение оборудования нового поколения в серийном производстве флагманских чипов компании. Такой подход позволит Intel накопить опыт работы с самым современным оборудованием для выпуска полупроводников и подготовиться к следующим поколениям техпроцессов. Источник изображения: ReutersURL изображенияУстановки High NA EUV считаются следующим этапом развития экстремальной ультрафиолетовой литографии...

Одна из крупнейших мировых аудиторских компаний PwC опубликовала отчеты с ошибками, связанными с использованием искусственного интеллекта, сообщает Financial Times. В документах обнаружили недостоверные источники и некорректные ссылки. По данным издания, в одном из случаев ИИ мог полностью выдумать научную статью о качестве воздуха в Эр-Рияде. В другом отчете среди источников оказался блог подростка с 280 подписчиками, а еще один документ ссылался на исследование самой PwC, что считается некорректной практикой...