2131 читали · 2 недели назад
Свершилось! Источник EUV собрали в Шанхае: как это удалось без ASML
Технологию, которую Китаю закрыли экспортными ограничениями, там решили построить заново — своими силами и с нуля. На промышленной выставке в Шанхае впервые публично показали прототип собственного источника излучения для литографии в экстремальном ультрафиолете: тот самый узел, без которого не делают передовые микросхемы и который серийно освоила одна компания в мире. Заявлено 90% китайских компонентов. Причём разработчик основан всего два года назад, а в его капитал уже вошёл фонд крупнейшего производителя микросхем страны...