Российский федеральный ядерный центр ВНИИЭФ, входящий в структуру «Росатома», займется разработкой отечественной установки для жидкостного химического травления полупроводниковых пластин. На опытно-конструкторские работы по проекту «Спрей» Минпромторг выделил 1,43 млрд рублей. Завершить разработку оборудования планируется до 30 ноября 2029 года. Новая установка предназначена для обработки кремниевых пластин диаметром до 200 мм и будет использоваться на предприятиях микроэлектронной промышленности...