Black resist. Совершенствуем фотолитографию для устройств фотоники и МЭМС
Что же поможет удовлетворить новым требованиям к фотонным устройствам, их сложности и функциональности и, следовательно, к связанным с ними оптическим характеристикам? В этой статье мы расскажем об инновациях...
01:22:01
1,0×
00:00/01:22:01
11,5 тыс смотрели · 3 года назад