В России разработаны уникальные кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), предназначенные для производства интегральных микросхем с нормами 65 нм. Проект реализован научными институтами НИИМЭ и НИИТМ, сообщает издание «Ведомости». Новое оборудование способно работать с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 мм, что позволяет российским специалистам занять лидирующие позиции на мировой арене. НИИМЭ разработал чистые помещения и технологические процессы, в то время как НИИТМ создал необходимое оборудование...