Этим летом произошло знаменательное событие для всей мировой микроэлектроники: началось массовое производство микросхем с использованием фотолитографов экстремального ультрафиолета с высокой числовой апертурой (High NA EUVL). Отличился американский передовик Intel, наладивший с помощью новейших сканеров ASML EXE:5200В выпуск процессоров Intel Core Ultra Series 3 «Panther Lake» по технологическому процессу 18А (18 ангстрем = 1,8 нанометров). Эти процессоры прежде всего ориентированы на рынок высокопроизводительных ноутбуков...

Китайские ученые нашли способ почти полностью убрать тепловое повреждение при лазерной обработке сверхпрочных высокоэнтропийных сплавов. Технология Water-Jet Guided Laser (WJGL) сократила ширину зоны термического влияния до 298 нм, что примерно на 99,1% меньше, чем при использовании обычного наносекундного лазера. Речь идет об армированном карбидами тугоплавком высокоэнтропийном сплаве NbMoTaW, который сочетает высокую прочность и термостойкость, но плохо поддается точной обработке из-за твердости, хрупкости и низкой теплопроводности...