Современные разработки в полупроводниковой промышленности сосредоточены на минимизации размеров устройств с помощью различных усовершенствованных литографических методов. Одной из ключевых задач является изготовление устройств меньших размеров в соответствии с законом Мура. Фото-Литосъемка, даже с использованием самой современной технологии погружения 193 нм с возможностью многократного отображения, чрезвычайно сложна для масштабирования ниже 22 нм. Альтернативой стандартным фотолитографическим подходам "сверху вниз" является подход "снизу вверх", основанный на самосборке...

Блок-сополимеры бутадиена и стирола обладают уникальным сочетанием прочности и эластичности, поэтому нашли применение в производстве герметиков и адгезивов. Сравниваем рабочие свойства продукции на основе SBS, SIS и SEBs и говорим об особенностях составов...