Последние несколько лет я только и слышу, что «производители чипов упёрлись в технологический предел». Ещё пару лет назад я часто слышал, что чипы, произведённые по техпроцессу 5 нм и менее, будут нестабильны, и развалятся в течение месяцев. Год назад такое говорили про 3 нм. Теперь про 2... Так вот, в документе, предназначенном для инвесторов, нидерландская компания ASML, которая производит передовые литографы для печати чипов (фабрика TSMC, где печатаются процессоры российской разработки, использует оборудование этого производителя), изложила своё видение перспектив создания процессоров...

В прошлой статье я описал характеристики первого российского литографа на 350 нм, который уже построен и тестируется в Зеленограде. Но одновременно с этим первым литографом разрабатывается и следующий, на 130 нм. Его разработка и строительство опытного образца завершится в 2026-м году. Если первый литограф на 350 нм, по сути, является, скорее всего, переработкой белорусского литографа ЭМ-5884, то следующий литограф — это уже глубокая модернизация с добавлением новых источников излучения — лазеров с длинами волн 193 и 248 нм...