728 читали · 5 дней назад
Смена вех в литографии: ASML анонсировала выход первых серийных чипов на High-NA EUV-сканерах в ближайшие месяцы
Гонка за право первыми напечатать коммерческий кремний по ангстремным техпроцессам выходит на финишную прямую. Генеральный директор нидерландского литографического гиганта ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) на отраслевом саммите Imec в Бельгии сделал ключевое заявление: первые серийные продукты, обработанные на новейших сканерах с высокой числовой апертурой (High-NA EUV), появятся на рынке в течение ближайших месяцев 2026 года. До сих пор считалось, что сложнейшее оборудование стоимостью около $400 млн за одну систему находится на стадии сугубо лабораторных экспериментов...