Нидерландская ASML потратила тридцать лет и десятки миллиардов долларов, чтобы довести EUV-литографию до серийного производства. Её сканеры стали незаменимым инструментом для выпуска чипов по нормам 5, 3 и 2 нм, и, фактически, монополией, определяющей технологический потолок всей полупроводниковой отрасли. Теперь пятидесятилетняя инженерная традиция, основанная на проецировании света через маски, может столкнуться с принципиально иным подходом. Норвежский стартап Lace Lithography предлагает отказаться от фотонов вовсе и заменить их нейтральными атомами гелия...