Есть одна странная особенность технологических новостей последних лет: чем меньше цифра в нанометрах, тем больше в тексте фантазии. «1 нм» звучит почти как финальный уровень — дальше уже некуда, физика упирается в стену, инженеры разводят руками. Но индустрия, как ни странно, живёт не законами школьной физики, а логикой маркетинга, инвестиций и… иногда чистого упрямства. История с «подготовкой к 1-нм техпроцессу» — как раз из этой серии. Не совсем выдумка. Но и далеко не факт. Если разложить по...

Современная микроэлектроника стоит на пороге фундаментального барьера. Технология литографии с длиной волны 13,5 нм, используемая сегодня для производства чипов по нормам 5, 4 и 3 нм, приближается к пределу своих возможностей. К 2030 году отрасль упрется в физический предел: классические оптические системы с этой длиной волны уже не смогут обеспечить стабильное воспроизведение топологии с шагом менее 8-10 нм. Однако выход есть — и он лежит в плоскости перехода к так называемой «жесткой» или «дальней» ультрафиолетовой области (Beyond EUV)...