Нередко можно встретить скептическое отношение к заявлениям сотрудников нижегородского Института физики микроструктур РАН о запуске в серию отечественного EUV (экстремальный ультрафиолет) литографа топологией 7 нм к 2030 году. В принципе, скептицизм понять можно: информации о прогрессе в этом вопросе поступает крайне мало. Да и процесс изготовления литографа длится уже «надцать с лишним лет». Но вот чего я точно понять не могу, так это когда ставится под сомнение сама необходимость создания оборудования, способного печатать чипы с такой передовой топологией...