Этот ящик на картинке демонстрационный образец литографа имеется в ИФМ РАН аж с 2011 года. В аннотации ИФМ РАН в 2011 году было написано: «Впервые в России создан стенд проекционного нанолитографа с рабочей длиной волны 13,5 нм и расчетным разрешением 30 нм. Изображение наноструктуры с уменьшением 1:5 проецируется на фоторезисте с помощью двухзеркального асферического объектива. Создание стенда свидетельствует о наличии в России ключевых технологий, позволяющих разрабатывать и производить литографическое...

Сегодня оборудование для производства микроэлектроники по современным нормам (10, 7, 4 нм) выпускает только нидерландская компания ASML. А компоненты для него поставляют компании из разных стран. В разработку инвестируют все крупнейшие мировые IT-компании: Intel, Samsung, TSMC и другие. Давайте узнаем, что вложила Россия в эти разработки. Суть вещей В России есть возможность выпускать микроэлектронику по нормам 65 нм, но не ниже. Ограничение упирается в физические принципы, а именно: длину волны применяемого электромагнитного спектра (света)...