Intel приступила к использованию новейших литографических установок High NA EUV компании ASML при производстве отдельных компонентов процессоров Panther Lake для ноутбуков. Это первое практическое применение оборудования нового поколения в серийном производстве флагманских чипов компании. Такой подход позволит Intel накопить опыт работы с самым современным оборудованием для выпуска полупроводников и подготовиться к следующим поколениям техпроцессов. Источник изображения: ReutersURL изображенияУстановки High NA EUV считаются следующим этапом развития экстремальной ультрафиолетовой литографии...

Эксперименты с передовым оборудованием ASML, обладающим высокой числовой апертурой (High-NA), корпорация Intel ведёт с 2024 года, но до сих пор она не была уверена, когда именно его нужно начинать применять в условиях массового производства. Поставщик этого оборудования заявил, что технически это уже происходит при выпуске некоторой части мобильных процессоров Panther Lake. Напомним, последние производятся по новейшей технологии Intel 18A, но сама по себе она не требует использования EUV-сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA)...