Компания Canon отправила первый образец своей машины для нанопечатной литографии американскому исследовательскому консорциуму — важный шаг к коммерческому использованию этого инновационного метода производства микросхем. Новая технология заметно сокращает расходы и потребление электроэнергии. Формирование элементов электронной схемы происходит за счёт деформации покрытия штампом с последующим травлением. Традиционное производство полупроводников производится методом фотолитографии (DUV или EUV),...

Canon анонсировала литографическую систему с высоким разрешением и большим размером экспозиционного поля для создания полнокадровых КМОП-матриц, устройств XR и прочих. Это устройство под названием FPA-5550iX позволит Canon укрепить своё лидерство в сфере производства полнокадровых матриц. Литографическая система — это ключевой элемент оборудования для изготовления полупроводниковых чипов. Canon предлагает разнообразное оборудование для литографии полупроводников, которое отвечает техническим потребностям различных приложений помимо стандартной обработки полупроводниковых пластин...