Технология фотолитографии заключается в переносе паттерна с маски или цифрового изображения на некий субстрат. Основное применение – это создание структур в микро- и наномасштабе. Это могут быть микрофлюидные каналы, микроактуаторы, оптические структуры в субдлинноволновом размере, транзисторы и многое другое. Последующие операции зависят от материалов и итогового продукта, но, если обобщать, включают в себя травление или легирование областей, не защищенных фоторезистом, либо нанесение тонкой пленки материала на поверхность образца с последующим «вымыванием» фоторезиста (lift-off)...