Ключевым партнёром нидерландской ASML в создании фотолитографа экстремального ультрафиолета (EUV) был (и является по сей день) крупный немецкий специалист в области оптики Carl Zeiss SMT. Немецкий передовик поставляет своему голландскому заказчику не просто отдельные компоненты оптической системы, а целые комплексные модули: осветитель + объектив. Почему один из модулей (второй относительно источника излучения) называется «объективом» понятно по аналогии с традиционной фотографией: задачей объектива...