743 читали · 1 неделю назад
В РФ разработали оборудование для микросхем топологических норм 65 нм
Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», завершили создание первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Эти установки позволят производить интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм. Об этом сообщили в компании. Институты вошли в число пяти мировых лидеров, обладающих компетенциями в создании и производстве такого оборудования. Основным исполнителем проекта...