Мировой лидер в производстве фотолитографических систем (EUV и DUV) для полупроводниковой промышленности компания ASML совершила прорыв в технологии EUV-литографии и планирует увеличить выпуск чипов на 50 % к 2030 году. Инженеры компании смогли повысить мощность источника света до 1000 ватт, что позволит обрабатывать до 330 кремниевых пластин в час и существенно снизить стоимость производства передовых процессоров. По сообщению Reuters, исследователи разработали метод кардинального увеличения мощности источника света в установках для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV)...

Рассмотрим задачу наглядно с помощью красочных чертежей. каждый раз выделяя своим цветом нужные для рассмотрения треугольники. Задача № 175 На сторонах угла XOY отмечены точки А, В, С и D так, что ОА=ОВ, AC=BD (рис. 97). Прямые AD и ВС пересекаются в точке Е. Докажите, что луч ОЕ — биссектриса угла XOY. Опишите способ построения биссектрисы угла, основанный на этом факте. Рассмотрим треугольники: OAD и OBC Рассматриваем на другом чертеже треугольники: ACE и BDE, из равенства их получим: ЕС = ED Рассматривает треугольники: OED и OEC...