В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам. Сейчас создан демонстрационный образец, который разработчики называют «прототип прототипа». На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. Сейчас в России в промышленных масштабах могут работать с микроструктурами только более 65 нанометров (в основном 90 нм и более)...

Пару месяцев назад, начиная с 18 октября 2022 года, в СМИ активно пошла информация, что в Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) создан демонстрационный образец литографа (прототип прототипа), на котором получены отдельные изображения на подложках с разрешением до 7 нм. Сначала я отнёсся к этому сообщению с некоторой долей скептицизма, о чём и написал соответствующую статью «Российский литограф на 7 нм к 2026-му году? Разбираемся с информационным вбросом.». Я основывался на...