В России изготовили два опытных эксимерных лазера с длиной волны 193 нм для отечественного фотолитографического оборудования. Разработку выполнила группа компаний «Лассард» в рамках проекта Зеленоградского нанотехнологического центра по созданию установки для производства микросхем с проектными нормами 130 нм. Сам по себе лазер микросхемы не производит. Он служит источником глубокого ультрафиолетового излучения, которым фотолитограф переносит рисунок будущей микросхемы с фотошаблона на покрытую фоторезистом кремниевую пластину...