Это световое излучение стало просто незаменимым в EUV фотолитографах, ключевом оборудовании в производстве передовых микросхем. Собственно, это излучение и дало название этой технике: фотолитографы экстремального (крайнего) ультрафиолета. Длина волны такого излучения находится в диапазоне от 10 до 120 нанометров. Единственные на сегодня EUV фотолитографы (производства нидерландского монополиста ASML) работают на источнике излучения с длиной волны 13,5 нм. Российские учёные из нижегородского Института...