163 подписчика
Это может стать нашим прорывом в микроэлектронике.
Российские разработчики создали и испытали мультикатод – единый источник множества электронных лучей для перспективного литографа, позволяющий экспонировать кремниевую пластину в 3000 раз быстрее. Первый опытный образец самой машины ожидается в районе 2029 года, разработанная технология закрывает нормы от 350 нм до единиц нанометров. О чём идет речь? Рассказываем:
Российские разработчики при поддержке НТИ создали и испытали ключевую технологию для многолучевого электронного литографа – мультикатод, единый источник, формирующий одновременно множество электронных лучей вместо одного. В отличие от систем, использующих сложное расщепление одного пучка с большим количеством зеркал и оптических затворов, эта разработка создаёт независимые источники электронов на единой подложке, что снижает требования к инфраструктуре, энергопотреблению и стоимости оборудования. Получены массивы источников с радиусом закругления вершины 1,5–2 нм — один из лучших мировых показателей для такого типа эмиттеров.
На основе мультикатода предполагается сборка установки, способной экспонировать кремниевую пластину (наносить рисунок топологии) за 5–7 минут. Для сравнения: традиционные однолучевые электронные литографы выполняют эту операцию за полторы-две недели, то есть новая технология даёт ускорение примерно в 3000 раз.
Разработанная российскими инженерами технология рассчитана на производство микросхем с топологическими нормами от традиционных «огромных» 350 нм до перспективных процессов всего в несколько нанометров. Предельное разрешение при этом определяется характеристиками применяемых фоторезистов, а не возможностями источника пучка.
Отметим, что сейчас проект находится на ранней стадии, однако в случае успешной реализации он способен сократить зависимость отечественной микроэлектроники от импортного литографического оборудования и расширить возможности серийного выпуска чипов.
Летом 2026 года завершён этап научно-исследовательских работ, следующий этап – опытно-конструкторская разработка самого литографа. Первый опытный образец установки может быть создан уже через три года – в районе 2029 года.
1 минута
11 августа