48 тыс подписчиков
Samsung рассчитывает получить первый литографический сканер High-NA EUV к концу года
Samsung планирует начать установку своей первой литографической системы High-NA EUV к концу 2024-го — началу 2025 года. Этот сканер, разработанный ASML, будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов, необходимых для создания логических микросхем и DRAM.
Ожидается, что установка завершится в кампусе компании в Хвасоне, а система начнет работу в середине 2025 года.
Около минуты
17 августа 2024