48 тыс подписчиков
В Японии создали упрощенный EUV-сканер, это сделает производство чипов дешевле
Японские ученые разработали упрощенный инструмент для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV-литографии), который дешевле аналогов, производимых компанией ASML. Новый EUV-сканер использует всего два зеркала вместо шести. Оптимизированный оптический путь позволяет направлять на подложку более 10% начальной энергии, в то время как в обычных системах этот показатель не превышает 1%. Установка потребляет всего 100 КВт энергии — в 10 раз меньше, чем традиционные системы. Если устройство будет запущено в массовое производство, это может изменить полупроводниковую промышленность. Патент на разработку уже подан.
Около минуты
7 августа 2024