14,7 тыс подписчиков
Профессор Tsumoru Shintake из Окинавского института науки и технологий (OIST) разработал существенно упрощённый инструмент для EUV-литографии, который значительно дешевле сканеров производства ASML. Предложенная им литографическая система требует всего два зеркала вместо шести.
Укороченный оптический путь не только экономит деньги и снижает энергопотребление установки, но еще и обеспечивает возможность более 10 % начальной EUV-энергии достигать пластины по сравнению с примерно 1 % в используемых в настоящее время установках ASML. Разработанный ими метод «двойного линейного поля» экспонирует фотошаблон, сводя к минимуму искажения и повышая точность изображения на кремниевой пластине, предотвращая оптические аберраций и обеспечивая высокую эффективность передачи света.
Учёные подали заявку на патент. Ожидается, что мировой рынок EUV-литографии вырастет с $8,9 млрд в 2024 году до $17,4 млрд к 2030 году.
Около минуты
6 августа 2024