Найти тему
14,6 тыс подписчиков

Производство передовых микрочипов сегодня практически полностью зависит от поставок оборудования одной единственной компании ASML. Два существующих ее конкурента в лице Nikon и Canon отстают, но также поддерживают торговые ограничения накладываемые США. Таким образом, фактически именно США решают, кто может производить микрочипы, а кто нет. Это один из тех инструментов, который позволяет одним странам навязывать технологически отставание другим странам, чтобы эти страны в дальнем приобретали высокотехнологичные товары с высокой добавленной стоимостью, переплачивая за технологию, а сами были вынуждены продавать товары с низкой добавленной стоимостью. И это положение дел может если не полностью, то серьезно измениться.


Профессор Tsumoru Shintake из Окинавского института науки и технологий (OIST) разработал существенно упрощённый инструмент для EUV-литографии, который значительно дешевле сканеров производства ASML. Предложенная им литографическая система требует всего два зеркала вместо шести.

Укороченный оптический путь не только экономит и снижает энергопотребление установки, но еще и обеспечивает возможность более 10 % начальной EUV-энергии достигать пластины по сравнению с примерно 1 % в используемых в настоящее время установках ASML. Разработанный ими метод «двойного линейного поля» экспонирует фотошаблон, сводя к минимуму искажения и повышая точность изображения на кремниевой пластине, предотвращая оптические аберраций и обеспечивая эффективность передачи света.
1 минута