48 тыс подписчиков
Первый литографический сканер ASML начал выпускать 2-нм чипы по технологии Low-NA EUV
Компания ASML сообщила, что на предприятии одного из клиентов завершен монтаж первой обновленной литографической машины — сканера Twinscan NXE: 3800E с низким значением числовой апертуры (Low-NA). Новый сканер на 50% более производительный, чем предыдущее поколение, и позволяет освоить выпуск продукции по техпроцессу 2-нм и 3 -нм без перехода на использование более дорогих EUV-сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA). Появление новых машин ASML снижает производственные затраты и позволит быстрее удовлетворить спрос на самые передовые чипы.
Около минуты
18 марта 2024