6015 подписчиков
#импортозамещение
Напомню, что в ИФМ РАН был разработан проект (дорожная карта) создания высокопроизводительного EUV-литографа на длину волны 11,2 нанометра с технологическими нормами 28 нанометров и ниже, вплоть до единиц нанометров, с рядом новаций по сравнению с EUV-литографом компании ASML
Этапы работ по нему я уже описывал в своей указанной выше статье
Реализация проекта должна привести к созданию в России передового литографического оборудования, позволяющего в короткие сроки решить проблему выпуска современных высокопроизводительных чипов и имеющего, кроме всего прочего, значительный экспортный потенциал
В ГК «Росатом» в ходе обсуждений работ по EUV-литографу неоднократно отмечалась коммерческая выгода проекта и перспективность выхода промышленных литографов, произведенных в России, на международный рынок
Благодаря ряду инновационных решений ожидается заметное уменьшение стоимости литографа при сохранении основных технических характеристик на уровне ASML
@imaxai Подписаться
Около минуты
7 марта 2024
265 читали