48 тыс подписчиков
Китайская SMEE создала литографический сканер для выпуска 28-нм чипов
Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) анонсировала свой первый литографический сканер, работающий по технологическому процессу 28 нм. До сих пор лучшим показателем для китайского оборудования был техпроцесс 90 нм. Это важное достижение, которое помогает Китаю сократить технологический разрыв в мировой индустрии микросхем. Литография SMEE все еще уступает в своих возможностях лидеру рынка, компании ASML, но рывок впечатляющий. Также пока не ясно, когда SMEE сможет выпускать такое оборудование в больших объемах.
Около минуты
21 декабря 2023