Китайская SMEE объявила о создании первого литографического сканера, построенного на базе отечественных компонентов и при этом способного выпускать чипы по норме 28 нм. Для полупроводниковой отрасли КНР – это настоящий прорыв, благодаря которому Поднебесная имеет шансы несколько сократить отставание от США в этой сфере, если, конечно, SMEE удастся наладить выпуск этих машин для производства чипов в достаточном количестве. Подробнее на CNews.ru