В Зеленограде подошли к важному рубежу в сфере микроэлектроники — АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) завершило создание первых опытных экземпляров установки электронно‑лучевой литографии, рассчитанной на проектные нормы 150 нм. Разработка шла в рамках опытно‑конструкторской работы под названием «Прогресс ЭЛЛ 150». Сейчас два образца находятся на этапе испытаний — эта стадия продлится четыре месяца. По ее завершении специалисты перейдут к оценке ключевых показателей — в первую очередь проверят точность формируемого изображения и другие значимые технологические характеристики. Об этом сообщило издание Cnews.
Особенность новой установки — возможность работать в так называемом безмасочном режиме. Технология позволяет наносить рисунок на подложку напрямую, используя сфокусированный поток электронов и не прибегая к классической литографии.
Такой подход заметно упрощает корректировку топологии при создании прототипов и выпуске небольших партий изделий. При этом для массового производства метод пока не подходит из‑за невысокой производительности. Основное назначение оборудования — производство фотошаблонов и выпуск специализированных микросхем. Особенно востребованными такие чипы могут стать в космической и оборонной отраслях — в этих сферах выпуск малых серий делает применение масок экономически невыгодным. Инженерам предстоит решить ряд непростых задач — в частности, добиться равномерности рисунка по всей поверхности пластины и повысить качество электронно‑чувствительных резистов.
Проект реализуется в рамках государственной программы «Научно‑технологическое развитие Российской Федерации». ЗНТЦ уже имеет опыт в этой области — ранее центр разработал фотолитограф с нормами 350 нм, который передали компании «Отраслевые решения» (входит в ГК «Элемент»). Развитие линейки литографического оборудования продолжается — по словам замглавы Минпромторга Василия Шпака, в марте 2026 года анонсировали старт работ над литографом для топологии 90 нм.
Кроме того, в планах ЗНТЦ — установка с нормами 130 нм, а с 2027 года намечен выпуск проекционного экспонирующего оборудования с разрешением 130 нм и системы для контроля дефектов поверхности, способной выявлять неоднородности размером от 45 нм.
Параллельно ЗНТЦ наращивает производственные возможности. В 2026 году введен в эксплуатацию сборочно‑испытательный комплекс, рассчитанный на выпуск до 200 000 микросхем ежемесячно. Освоены корпуса типов PBGA, FC‑BGA и HFCBGA. В перспективе — совместная работа с НИИМА «Прогресс», там планируется внедрение технологии «чиплетной» сборки, которая позволит размещать пять кристаллов на кремниевом интерпозере.
По оценке первого вице‑премьера Дениса Мантурова, появление отечественной линейки литографов означает, что Россия вновь вошла в круг стран, способных производить микроэлектронное оборудование, и это спустя 45 лет. Хотя технологии с нормами 150–130 нм уступают передовым мировым решениям (где уже появился техпроцесс 2 нм), они вполне отвечают потребностям ряда критически важных отраслей. Кстати, СССР достиг техпроцесса 2000 нм к середине 80-х, а потом, увы, 90-е сделали свое дело.
Интересуетесь развитием литографии в России?
Чтобы быть в курсе важных ИТ-новостей, подписывайтесь на мой канал в мессенджере MAX