Нидерландские компании ASML и TNO объявили о сотрудничестве, цель которого — ускорить развитие европейской индустрии фотонных чипов и приблизить их массовое производство.
Ключевым элементом проекта станет новая пилотная производственная линия, которую строят в технологическом центре High Tech Campus в Эйндховене. Она должна стать одной из главных европейских площадок для разработки и выпуска фотонных микросхем.
В рамках партнерства ASML установит на предприятии свое литографическое оборудование — сканеры DUV и I-Line. Новая линия будет использоваться не только для исследований, но и для отработки технологий, необходимых для серийного производства фотонных чипов.
В отличие от обычных микросхем, фотонные чипы передают и обрабатывают информацию с помощью света, а не электрических сигналов. Такой подход позволяет значительно увеличить скорость передачи данных и одновременно снизить энергопотребление. Технология считается одной из самых перспективных для дата-центров, телекоммуникаций, медицинского оборудования, различных сенсоров и квантовых вычислений.
Производственная линия будет выпускать фотонные микросхемы на основе фосфида индия (InP) с использованием 6-дюймовых пластин. Это считается важным шагом на пути от экспериментальных образцов к промышленному производству.
Проект не ограничится созданием производственной площадки. Партнеры также будут проводить совместные исследования, технические семинары и демонстрации технологий для представителей отрасли. В работе участвуют Эйндховенский технический университет, Университет Твенте и национальный центр Photonic Integration Technology Centre (PITC).
В ASML рассчитывают, что сотрудничество поможет быстрее превращать научные разработки в коммерческие продукты и укрепит позиции Европы в сфере полупроводниковых технологий. Проект также рассматривается как часть стратегии по снижению зависимости европейской микроэлектроники от зарубежных производителей.