Что же нам делать с фотолитографом экстремального ультрафиолета? Поскольку о каких-то прорывах в области иммерсионной литографии ничего не слышно, похоже, что создание EUV машины — наша единственная реальная возможность подобраться к производству столь нужных нам передовых микрочипов.
Возникает вопрос, что лучше: пойти по стопам мирового монополиста в этой области, нидерландской ASML, или разработать свою оригинальную машину? Ответ на такой вопрос совсем не очевидный. К слову, подобный вопрос у нас возникает не в первый раз. Ведь сколько было сломано копий во время дискуссий, стоило ли в советские времена в качестве ядра вычислительной системы EC ЭВМ использовать разработки американской IBM System/360?
Причём копья в основном ломались и продолжают ломаться в наше время. Тогда, в конце 60-х, вопреки устоявшемуся мнению, среди советских конструкторов и соответствующих партийных работников по этому поводу царило полное единодушие. Концепция IBM-360 в плане совместимости ЭВМ разной производительности, возможности создания целых комплексов машин и взаимного использования программ, была по тем временам огромным шагом вперёд.
Другой вопрос, что были споры по-поводу того, что лучше: приобрести лицензию на производство IBM-совместимой ЭВМ у британской ICL со всей документацией и постановкой технологий или «допилить» концепцию IBM собственными силами. Выбрали второе. Но так, чтобы ещё непонятно сколько времени разрабатывать свою оригинальную систему, несовместимую с остальным миром, так вопрос в принципе не стоял. Хотя это и выглядело романтично, но было признано свершенно непрактичным.
Ведь стране тогда как можно быстрее требовалось развернуть массовое производство единой стандартизированной компьютерной системы для Советского Союза и стран СЭВ, что и было успешно выполнено: в 1969 году по этому поводу было принято коллективное решение стран СЭВ, а в 1972 году уже развёрнуто серийное производство машин Единой Системы (ЕС) ЭВМ.
С другой стороны, именно в 70-е годы обозначилось существенное отставание советской вычислительной техники и полупроводниковой промышленности от стран Запада. И с каждым годом это отставание стало только нарастать. Поэтому и возникает вопрос, а что, если бы мы всё-таки в конце 60-х засучили рукава и сделали что-то своё, оригинальное и прекрасное? Что если бы это своё воодушевило бы советских инженеров на такие высокие достижения, которые в принципе невозможны, когда приходится адаптировать достижения чужие?
Сейчас также трудно сказать, что нам обещает больший успех: разработка по образцу ASML EUV фотолитографа на основе оловянного лазерно-плазменного источника излучения или создания собственной оригинальной машины тоже на лазерно-плазменном источнике, но на основе ксенона согласно задумке инженеров нижегородского Института физики микроструктур.
С одной стороны наших разработчиков можно понять: фотолитограф на ксеноне обещает быть более эффективным, экономичным и экологичным. Ведь благородный газ в этом смысле не чета расплавленному олову. С другой стороны, ничего путного из попыток укротить ксенон применительно к фотолитографии не получилось ни у голладцев, ни у японцев. Наверное, именно поэтому вопрос, каким именно образом задачу создания фотолитографа будем решать мы: пойдём проторенной дорогой или постараемя осуществить прорыв в другом направлении, пока остаётся открытым.
Но ведь по большому счёту не так уж и важно, капает ли в машине олово или струится ксенон. Главное, чтобы машина появилась как можно скорее. Ведь российская вычислительная техника передовые отечественные микросхемы попросту заждалась.
Статью про коллектор, главное зеркало EUV фотолитографа, читайте в премиум-разделе канала «Фотолитограф»: