Университет Кембриджа описал новый мемристор на основе оксида гафния (HfO2), который переключается при токах примерно в миллион раз ниже, чем у типичных оксидных устройств. В статье в Science Advances команда заявляет о переключении при токах ниже 10 нА и о сотнях устойчивых уровней проводимости — это прямой намек на более энергоэффективные нейроморфные чипы для ИИ. Большинство HfO2-мемристоров работают через так называемое филаментарное переключение. Внутри оксида растут и разрываются проводящие «нити». Проблема в том, что эти нити ведут себя случайно. Это бьет по повторяемости: параметры «плавают» от цикла к циклу и от устройства к устройству. А для вычислений это значит ниже точность и сложнее калибровка. Команда Кембриджа пошла другим путем. Они сделали многокомпонентную тонкую пленку, где внутри формируется самособирающийся p-n-переход. И мемристор переключается не через рост нитей, а за счет изменения барьера на гетероинтерфейсе. ❗️ ПОДПИСЫВАЙСЯ НА НАШ КАНАЛ В ДЗЕНЕ И ЧИТАЙ КРУТЫ
Кембридж показал мемристор на HfO2: токи переключения в миллион раз ниже
29 марта29 мар
3 мин