Пока мировые гиганты литографии — ASML, Nikon, Canon — десятилетиями шлифуют технологию экстремального ультрафиолета (EUV) с длиной волны 13,5 нм, в России случилось то, что западные корпорации предпочитают не замечать. В Институте физики микроструктур РАН (Нижний Новгород) создан и испытан стенд лазерно-плазменного источника излучения, который работает на длине волны 11,2 нм. Казалось бы, разница всего 2,3 нм. Но в мире литографии это не просто «чуть меньше», это революция.
ASML использует в своих EUV-сканерах лазер, который бьёт по каплям олова, генерируя плазму с излучением 13,5 нм. Технология сложнейшая, но у неё есть фундаментальный недостаток: олово загрязняет оптику, снижает ресурс оборудования, требует сложных систем очистки. Российские учёные пошли другим путём — они используют ксеноновую плазму. Это даёт более чистый источник излучения, который меньше убивает коллекторы и защитные плёнки. Срок службы оптики растёт, эксплуатационные расходы падают. А главное — мощность такого источника можно наращивать без тех ограничений, с которыми столкнулся ASML.
И здесь возникает вопрос, который в корпоративных отчётах голландского гиганта обходят стороной. ASML — классический пример того, как частный бизнес, даже самый успешный, не умеет заниматься фундаментальной физикой. Они не изобретали новые принципы генерации излучения. Они взяли готовые наработки по 13,5-нм лазерам, созданные в университетах и национальных лабораториях, и превратили их в коммерческий продукт. Чтобы перейти на 11,2 нм, нужны годы исследований в области физики плазмы, новых лазерных систем, новых материалов. Этим занимаются государственные научные центры. В России такой центр уже есть. И он уже показал работающий стенд.
Но вот главная интрига: даже если к 2035 году российская рентгеновская литография станет реальностью, кто будет её заказчиком? Ведь для серийного производства нужны не единичные установки, а целая экосистема: фабрики, материалы, кадры, экономика. И здесь возникает ещё более острый вопрос: а готов ли кто‑то в России ждать 10 лет, вкладываться в фундаментальную науку и не свернуть проект на полпути, как это уже случалось не раз? Потому что если эта гонка состоится, то у нас есть шанс к 2034 году выйти на финиш не «догоняющими», а с технологией, которой у ASML просто не будет. Однако для этого нужно сделать то, чего западные корпорации делать не умеют — но об этом статье по ссылке — https://dzen.ru/a/accdHEqc3lyZWR0e
Читайте в полной статье:
— Почему 11,2 нм против 13,5 нм — это не просто цифры, а принципиально новая чистота и скорость производства?
— Как работа российских учёных с ксеноновой плазмой может дать России двойной прирост производительности за счёт однократного экспонирования?
— И главное: кто в России готов финансировать фундаментальную науку десятилетиями, чтобы не покупать литографы у ASML, а создавать свои — с лучшими характеристиками?
Автор:
kogman