Когда в марте 2026 года замминистра Василий Шпак объявил о начале разработки отечественного литографа на 90 нм, привычные скептики закатили глаза: «90 нм? Да это же 2004 год! Intel тогда Pentium 4 выпускал». И были бы правы, если бы не одна деталь: они смотрят на цифры, но не видят механику. А механика здесь такая, что западные производители оборудования нервно перелистывают свои же патентные архивы.
В мировой практике 90-нанометровый литограф никогда не был «конечной станцией». На тех же установках с длиной волны 193 нм (глубокая ультрафиолетовая фотолитография) отлично получали 65, 45, 28 и даже 22 нм. Всё, что для этого нужно — многократное экспонирование, более точная оптика, совершенная химия и системы позиционирования. Никакого чуда. Просто инженерная работа, которую в России по разным причинам не делали тридцать лет.
И вот теперь эту работу начали. Не с нуля, а с фундамента, который уже есть: литограф на 350 нм уже серийно выпускает ЗНТЦ, на 130 нм появится к концу года, на 90 нм — через два-три года. А дальше, по словам того же Шпака, «28 нм — не за горами». Почему они так уверены? Потому что траектория известна, а узкие места — понятны. В 2024 году российская компания «Лассард» уже произвела опытные образцы эксимерных лазеров, способных работать с нормами до 65 нм. Россия стала третьей страной в мире (после Японии и США), у которой есть такая технология. Теперь осталось нарастить точность, наладить серию и… не повторить ошибку, которая случилась несколько лет назад.
Тогда «Микрон» пытался освоить 65 нм на оборудовании, рассчитанном на 90 нм. Технически — возможно. Но выход годных чипов оказался слишком низким, и проект заглох. Почему? Потому что не хватало системности: не было своего литографа, не было полного контроля над процессом, не было долгосрочной стратегии. Сегодня эту системность пытаются выстроить с нуля. И если получится, то 90-нанометровый литограф станет не «вчерашним днём», а трамплином для 65, 45 и 28 и 22 Нм. Но хватит ли на этот раз терпения, ресурсов и — главное — политической воли, чтобы довести дело до конца. И что там по поводу источника излучения на длине волны в 11.2 Нм, который перевернёт шахматную доску микроэлектроники на ближайшее десятилетие, читайте в статье по ссылке — https://dzen.ru/a/accdHEqc3lyZWR0e
Читайте в полной статье:
— Почему 90-нанометровый литограф — это не шаг назад, а единственно возможный путь к 22 нм в российских реалиях?
— Как получилось, что «Микрон» уже пробовал сделать 65 нм на 90-нм оборудовании, но не смог, и что изменилось сейчас?
— И главное: как так получилось, что в России разработка литографа, который будет работать с мощным источником излучения работающего на длине волны 11,2 Нм оказалась запущена раньше, чем на 350 и 90Нм? И почему это абсолютно верный подход?
Автор:
kogman