Норвежский стартап Lace Lithography при поддержке Microsoft привлёк 40 миллионов долларов на разработку литографического сканера, использующего пучок атомов гелия вместо света. Ширина пучка — всего 0,1 нанометра. Это позволяет печатать элементы чипов на порядок меньше, чем современные EUV-сканеры ASML, которые ограничены длиной волны 13,5 нанометра.
В литографии давно царит правило: чем меньше длина волны, тем тоньше можно нарисовать детали. Но у света есть дифракционный предел, и EUV-сканеры ASML с длиной волны 13,5 нм подошли к нему вплотную. Производители чипов вынуждены использовать сложные многослойные методы, чтобы обойти ограничения физики. Норвежский стартап Lace Lithography предлагает кардинально иное решение: отказаться от фотонов вообще.
Вместо света — пучок нейтральных атомов гелия. Ширина пучка — 0,1 нанометра, что примерно равно диаметру атома водорода. Это позволяет печатать элементы с потенциально атомным разрешением, обходя дифракционный предел. Технологию называют BEUV — Beyond EUV.
Компания только что закрыла раунд финансирования на 40 миллионов долларов. Среди инвесторов — Microsoft. В Lace работает уже более 50 человек в Норвегии, Испании, Великобритании и Нидерландах. Первые результаты исследований представлены на конференции SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Генеральный директор и соучредитель Lace Бодил Хольст заявляет, что технология позволит печатать пластины с «в конечном итоге атомным разрешением». Научный директор по литографии Imec Джон Петерсен считает, что такой подход может уменьшить транзисторы и другие элементы чипов на порядок — до «почти невообразимой» степени.
Lace — не единственная, кто пытается бросить вызов ASML. Американские стартапы Substrate и xLight разрабатывают источники на ускорителях частиц для EUV- или рентгеновской литографии (xLight получил $150 млн госфинансирования). Canon поставила первый инструмент для наноимпринтной литографии в Техасский институт электроники ещё в 2024 году. Китайская Prinano представила свою систему на внутреннем рынке. Но Lace — единственная, кто полностью отказался от электромагнитного излучения.
Пока это лабораторная технология. Разрыв между прототипом и производством огромен. ASML потратила десятилетия и миллиарды долларов, чтобы превратить EUV в коммерческий продукт. Lace рассчитывает развернуть испытательный стенд на пилотном предприятии к 2029 году. Сроки серийного производства не называются.
Вопрос не в том, сможет ли Lace нарисовать атомарные структуры. Сможет ли она сделать это быстро, надёжно и дёшево на тысячах пластин в час? Пока ответа нет. Но сам факт, что альтернатива EUV существует не в теории, а в железе, меняет правила игры. Даже если Lace не дойдёт до фабрик, она уже заставила индустрию задуматься: а что, если свет — не единственный путь?
💡 Читайте также:
Понравился материал?
Подписывайтесь на наши каналы в Дзене, VK, OK и Telegram и заходите на наш сайт Techdgst.ru, где мы публикуем еще больше новостей о технологиях и науке.