Установку совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм РАВЦ.442174.002ТУ производства АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) добавили в каталог Государственной информационной системы промышленности (ГИСП). Информация об оборудовании появилась в каталоге в начале марта. Согласно описанию, установка, которую начали производить в 2024 году, предназначена для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении СБИС (сверхбольших интегральных схем, — ред.) с проектной топологической нормой 0,35 мкм. Страной происхождения товара указывается Россия. При этом уточняется, что страна указана из декларации компании-производителя. Проверка уровня локализации производства в РФ не проводилась. Установка способна обрабатывать пластины диаметром 200 мм. Погрешность совмещения — 90 нм. Справка: • АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) зарегистрировано в 2010 году в Зеленограде (
В каталоге ГИСП появилась установка переноса изображения фотошаблона на пластину
14 марта14 мар
6
1 мин