Хотя новейшие EUV машины с высокой числовой апертурой уже поставлены. Ведущие полупроводниковые фабрики мира разворачивают массовое производство логических чипов по ультрапередовым 2 нм техпроцессам. Новых имён в недлинном списке мировых передовиков нет: тайваньская TSMC, южнокорейский Samsung Electronics и американский Intel. Разве что японский Rapidus старается растолкать локтями многолетних лидеров рынка, однако пока только на уровне пилотного производства. С помощью каких фотолитографов эти фабрики сумели освоить столь сложные техпроцессы? На ум сразу приходит предположение, что это новейшие EUV сканеры ASML с высокой числовой апертурой (оптикой гигантских размеров, обеспечиающей высочайшее разрешение). Ведь именно возможность формировать слои по 2 нм (и меньше) техпроцессам на полупроводниковых пластинах за один проход и явилось главным обоснованием грандиозных затрат на разработку этих машин (и их грандиозной цены в районе полумиллиарда долларов за установку). Казалось бы, даже с
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум