Россия до конца текущего года планирует освоить литограф, способный выпускать микросхемы размерностью 130 нанометров. Об этом сообщил первый вице-премьер Российской Федерации Денис Мантуров на пленарном заседании первого окружного отчетно-программного форума «Есть результат!». По его словам, освоение нового оборудования должно состояться до конца года. «До конца года мы должны освоить новый литограф 130 нанометров», — заявил Мантуров. Он отметил, что в сфере микроэлектроники стране предстоит выполнить значительный объем работы, в том числе сократить технологический разрыв с мировыми лидерами. Литография в микроэлектронике представляет собой процесс создания очень мелких структур на поверхности полупроводниковых материалов, формирующих микросхемы. Эта технология имеет ключевое значение для производства микропроцессоров. Ранее в России совместно с Белоруссией был создан первый отечественный литограф на 350 нанометров — оборудование для нанесения рисунка на микросхемы. АиФ в MAX https://m
Мантуров: РФ до конца 2026 года должна освоить литограф на 130 нанометров
19 февраля19 фев
747
1 мин