📝 Кратко: Мировой лидер в производстве фотолитографических систем (EUV и DUV) для полупроводниковой промышленности компания ASML совершила прорыв в технологии EUV-литографии и планирует увеличить выпуск чипов на 50 % к 2030 году. 🔗 Читать оригинальную статью (ссылка) 📊 Источник: 3DNews ⏰ Время: 23.02.2026 21:55 📱 Другие каналы: 🪙 ВКрипту | 🎮 ВИгрухи | 🏎️ ВТачки | ✈️ ВТравелу #gadgets #гаджеты #технологии
⚡ ASML разогнала EUV до киловатта — производительность сканеров вырастет на 50 % через несколько лет
СегодняСегодня
~1 мин