Российские учёные сделали ход, которого от них не ждали даже скептики: вместо попытки скопировать западные литографические установки они сознательно отказались от догоняющей модели и взялись за создание принципиально иной, более продвинутой системы. Это не «импортозамещение ради галочки», а заявка на собственную технологическую траекторию, где правила диктуют не чужие стандарты, а собственные инженерные решения и научная логика.
Первые серьёзные подробности всплыли на XXVIII Международном симпозиуме «Нанофизика и наноэлектроника», который прошёл в Нижнем Новгороде с 11 по 15 марта. Более шестисот учёных из ведущих российских лабораторий обсуждали будущее микро- и наноэлектроники, и именно там стало ясно: проект российского литографа развивается куда смелее, чем предполагалось ранее. Доктор физико-математических наук, заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур РАН Николай Чхало представил доклад, который фактически стал манифестом новой стратегии.
Ключевое решение — отказ от привычной для мировой индустрии длины волны 13,5 нанометра, на которой работает большинство современных EUV-литографов. Вместо этого российские разработчики выбрали нестандартное и более жёсткое излучение с длиной волны 11,24 нанометра. Такой шаг означает не косметическую доработку, а полную переработку всей оптической и технологической схемы. Это сложнее, рискованнее и дороже, но именно такой подход открывает возможности для более тонкой и точной литографии в перспективе.
Проект сразу задуман как кооперация крупнейших научных и промышленных центров, включая структуры «Росатома» и профильные институты. На первом этапе система будет рассчитана на технологические нормы 28 нанометров, но это лишь стартовая точка. Архитектура закладывается с расчётом на последовательную модернизацию до 10 нанометров и ниже, без необходимости создавать установку с нуля каждый раз.
Примечательно, что концептуальная проработка механизма была завершена ещё в 2022 году, и с тех пор проект развивается в ускоренном режиме. По текущим планам, первый полнофункциональный опытный образец должен появиться уже в 2026–2027 годах, а выход на ограниченное серийное производство намечен на период с 2028 по 2031 год. И что особенно важно — разработчики пока не выбиваются из графика, что для столь сложных проектов редкость.
Уверенность инженеров выглядит не бравадой, а трезвым расчётом. Российские специалисты стояли у истоков современной литографии, работая бок о бок с западными компаниями, включая ASML, ещё на ранних этапах развития технологии. Этот опыт никуда не исчез, и сегодня он используется уже в самостоятельных разработках, без оглядки на внешние ограничения и лицензии.
По сути, Россия пытается сделать то, на что не решаются даже технологические лидеры: не улучшать существующую дорожку, а проложить новую. И если этот проект будет доведён до конца, разговоры о «вечном отставании» в микроэлектронике придётся отправить туда же, где пылятся старые техпроцессы — в архив.
Если материал оказался интересен, поддержите публикацию лайком и комментарием. Впереди еще много разборов военной истории и техники.