В статье представлена новая стратегия объёмной печати, которая позволяет создавать сложные трёхмерные структуры с высоким соотношением сторон и минимальными элементами размером 6 мкм. Используется одноэкспозиционное формирование, что обеспечивает быстрое изготовление решёток, элементов с геометрией Пенроуза и других структур объёмом до 800 x 800 x 720 мкм³. Показана возможность контролируемого перемещения жидкости и высокая механическая прочность напечатанных структур. arXiv: 2602.11508 Обзоры | Физика
Голографическая литография с однократным экспонированием микроструктур со сверхвысоким аспектным соотношением
В статье представлена новая стратегия объёмной печати, которая позволяет создавать сложные трёхмерные структуры с высоким соотношением сторон и минимальными элементами размером 6 мкм. Используется одноэкспозиционное формирование, что обеспечивает быстрое изготовление решёток, элементов с геометрией Пенроуза и других структур объёмом до 800 x 800 x 720 мкм³. Показана возможность контролируемого перемещения жидкости и высокая механическая прочность напечатанных структур.
arXiv: 2602.11508
