Китай создал прототип установки для экстремальной ультрафиолетовой литографии, используя компоненты из старых систем ASML и экспертизу бывших инженеров голландской компании. Прототип завершён в начале 2025 года и проходит испытания, занимая почти весь заводской цех. Машина генерирует EUV-излучение, но ещё не производила рабочие чипы. Китай планирует выпустить функциональные процессоры на базе этой технологии к 2028 году, хотя более реалистичной целью считается 2030-й.
Бывшие сотрудники ASML как ключевой актив
Прототип разработан бывшими инженерами ASML, которые провели реверс-инжиниринг EUV-машин. Без их глубокого опыта задача была бы практически невыполнимой — технология EUV-литографии считается одной из самых сложных в современной индустрии.
Привлечение специалистов стало частью агрессивной кампании по поиску инженеров, запущенной в 2019 году. Компании предлагали бонусы от 3 до 5 миллионов юаней (420-700 тысяч долларов) и субсидии на покупку жилья.
Reuters упоминает Линь Наня, бывшего руководителя отдела технологий источников света в ASML. Его команда в Шанхайском институте оптики Китайской академии наук за последние 18 месяцев подала восемь заявок на патенты в области источников света для экстремального ультрафиолета, критически важного компонента EUV-систем.
Huawei координирует общенациональную сеть
Хотя проект реализуется под руководством китайского правительства, Huawei играет центральную роль в координации общенациональной сети компаний и государственных исследовательских институтов, объединяющей тысячи инженеров.
Компания направила сотрудников в офисы, производственные цеха и исследовательские центры по всей стране для оказания поддержки. Согласно источникам Reuters, сотрудники, задействованные в проекте, часто остаются на рабочем месте в течение рабочей недели и сталкиваются с ограничениями на возвращение домой. Доступ к телефону ограничен из-за конфиденциального характера работы.
Режим секретности и интенсивность работы указывают на высочайший национальный приоритет проекта.
Технологический разрыв остаётся значительным
Хотя Китай создал прототип, он гораздо менее совершенен, чем системы ASML. Прототип достаточно функционален для тестирования, но Китай по-прежнему сталкивается со значительными техническими трудностями.
Особенно проблематичны сверхточные оптические системы, производимые западными поставщиками, прежде всего немецкой компанией Carl Zeiss AG, ключевым партнёром ASML. Оптика Zeiss для EUV-литографов представляет собой вершину инженерного искусства: зеркала с точностью до долей нанометра, работающие в вакууме при экстремальных условиях.
По некоторым данным, в прототипе используются компоненты японских компаний Nikon и Canon, экспорт которых ограничен санкциями. Это указывает на сложности с полной технологической независимостью: даже для сборки прототипа потребовались западные и японские элементы.
Реалистичные сроки коммерциализации
Китай намерен производить функциональные чипы на основе прототипа к 2028 году, но более реалистичной целью эксперты считают 2030-й. Разрыв между работающим прототипом и промышленной системой, способной выпускать годные чипы с приемлемой производительностью, огромен.
EUV-литограф ASML — результат десятилетий разработки и триллионов долларов инвестиций от множества компаний и государств. Воспроизвести эту экосистему за несколько лет, даже с привлечением бывших инженеров ASML, — задача колоссальной сложности.
Тем не менее, наличие прототипа говорит о том, что Китай может на несколько лет раньше достичь частичной самодостаточности в производстве полупроводников, чем ожидалось ранее. Даже несовершенная EUV-система позволит производить чипы с нормами 7-5 нм, что критично для многих применений.
Геополитические последствия
Успех китайского проекта, даже частичный, подорвёт эффективность западных экспортных ограничений на передовое полупроводниковое оборудование. Монополия ASML на EUV-литографию была ключевым инструментом технологического сдерживания Китая.
Если к 2030 году КНР создаст функциональную EUV-систему, пусть и уступающую западным аналогам, это изменит баланс сил в глобальной индустрии производства полупроводников. Китай получит возможность производить передовые чипы без зависимости от западных поставщиков оборудования.
Вопрос в том, насколько надёжной и производительной окажется китайская система, и сможет ли она масштабироваться до уровня, необходимого для удовлетворения внутреннего спроса страны на передовые чипы.