Как украсть современную микроэлектронику — китайский урок 🇨🇳
Несколько СМИ сообщили, что бывший топ компании ASML передал её секреты Китаю, и теперь Поднебесная сможет создавать микросхемы по техпроцессу 2 нм. Звучит как простая операция вывоза на флешке чертежей литографа с технологией EUV (экстремальный ультрафиолет). Так можно поверить и в заявления Института прикладной физики РАН, который в 2022 году за 2 года обещал сделать альфа-версию литографа на 7 нм — кстати, где она? И только Reuters раскопало практически детективную историю, как Китай уже в течение 6 лет ведёт масштабный проект по копированию технологии EUV для получения собственных передовых микросхем. Потому что без неё получить микросхемы по технологии менее 7 нм невозможно.
Следите за руками: в 2001 году голландская ASML представила установку EUV, которая должна была сменить текущий литографический процесс с глубоким ультрафиолетом, чтобы достичь более тонких техпроцессов. Коммерческие образцы появились только в 2019 году, и их купили передовые производители Тайваня, Южной Кореи и Японии. Intel, кстати, не стал вкладываться в новую технологию — это один из источников текущих проблем. А в Китай её импорт запретили США. По некоторым данным, суперпроизводительный лазер для EUV производится в США, что позволяет держать ASML на привязи.
Китай реализовал масштабный проект, который Reuters сравнивает с созданием ядерной бомбы. В течение 6 лет по всей стране были организованы институты для изучения различных аспектов EUV — объёмы грантов составляли сотни тысяч долларов. За шестизначные суммы в долларах нанимались сначала бывшие сотрудники ASML, а потом Китай перешёл на переманивание текущих сотрудников. Кроме того, по различным совместным исследовательским проектам удалось получить части установки EUV, была закуплена подходящая оптика у немецкой Carl Zeiss, а у Canon и Nikon — шаблоны для литографии.
Огромный проект был умело разбит на части, и каждая отдельная покупка не вызывала подозрений или её удавалось совершить в обход санкций. Даже бывшие сотрудники ASML получали псевдонимы, поэтому сначала не знали о масштабах хедхантерской компании. В результате в 2025 году Китаю удалось получить прототип литографа на EUV. Отмечается, что пока он имеет некоторые проблемы с оптикой и годится только для изучения процесса, но к 2028-2030 году планируется начать выпуск коммерческих установок.
Что нам с этого? Уверены, Китай России EUV не продаст, но он показывает, как надо осваивать современные технологии — последовательно, с планированием в десятилетие, контролируя промежуточные результаты, а не бросаясь каждый год от одних прожектов к другим.
