Китайская полупроводниковая отрасль, похоже, преодолела критически важный психологический и технический рубеж. Информированные источники сообщают о завершении сборки первого национального прототипа установки для литографии в глубоком жёстком ультрафиолете (EUV). Именно эта технология открывает доступ к производству самых современных микрочипов, и до недавнего времени монопольным правом на создание такого оборудования обладала единственная компания в мире — нидерландская ASML. Читайте: США хотят, чтобы ASML прекратила продажу установок для изготовления процессоров Китаю Вашингтон годами выстраивал санкционные барьеры, отчаянно пытаясь отрезать Пекин от технологий. Однако новые отчёты свидетельствуют: КНР всё-таки удалось создать собственный опытный образец, фактически взломав технологическую блокаду. До сегодняшнего дня EUV-сканеры сходили в основном с конвейеров ASML, но Китай методично шёл к прорыву. Как отмечает профильный портал WCCFtech, местные технологические гиганты, в частности
Конец монополии ASML – Китай создал прототип EUV-литографа вопреки санкциям
20 декабря20 дек
134
2 мин