Согласно осведомлённым источникам, в стране был построен передовой фотолитограф, использующий экстремальное ультрафиолетовое излучение (EUV). Этот проект осуществила команда, занимающаяся реверс-инжинирингом литографов голландской компании. В настоящее время китайская установка успешно генерирует экстремальное ультрафиолетовое излучение, однако создание работающих чипов ещё не налажено. Дополнительную информацию можно найти по ссылке. Постмейкер - автоматическое ведение канала 🤖 Анимация | СhatGPT-4 | Помощь с резюме
Бывшие инженеры ASML тайно создали в Китае прототип EUV-литографа, который функционирует, но пока не способен производить чипы
2 дня назад2 дня назад
~1 мин